1250-1300℃致密化燒結高純氧化鋁粉

1250-1300℃致密化燒結高純氧化鋁粉

• 超高純度：所有型號的氧化鋁含量均≥99.99%，部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上。關鍵雜質如Si、Fe、Na等含量被嚴格控制在低水平，例如TM-DAR型號中Si<10ppm、Fe<8ppm、Na<8ppm

  。
• 低放射性雜質：鈾(U)和釷(Th)含量分別低于0.004ppm和0.005ppm

  ，這使得材料在核醫(yī)學和半導體等對純度要求的領域具有重要應用價值

  。

粒徑分布

• 超微細粒徑：一次粒子徑可達0.10μm，部分型號如TM-5D粒徑為0.20μm

  。粒徑分布可控且均勻，BET比表面積從9.0m2/g到17.0m2/g不等。
• 顆粒形貌優(yōu)化：顆粒形狀均勻，減少了燒結過程中氣孔的形成，使燒結體透光率顯著提高

  。

低溫燒結特性

• 低溫燒結：TM-D系列可在1250-1300℃實現(xiàn)致密化燒結，燒結密度可達理論密度的98%以上。TM-UF型號的燒結溫度更低，可在1200°C至1250°C的溫度范圍內(nèi)實現(xiàn)致密化

  。
• 節(jié)能與性能優(yōu)勢：相比傳統(tǒng)氧化鋁的高燒結溫度（通常>1600℃），大明化學的氧化鋁粉體燒結溫度大幅降低，能耗減少30%-40%

  。此外，低溫燒結還能減少晶粒異常生長，提高燒結體的致密程度

  。

優(yōu)異的成型性能

• 表面修飾技術：通過表面修飾技術防止顆粒團聚，振實密度最高可達1.0g/cm3（TM-DAR/TM-DR），注射成型時填充率提升15%以上

  。
• 高成形密度：成形密度可達2.3g/cm3（單軸壓制98MPa），減少燒結收縮率

  。

優(yōu)良的燒結體性能

• 高強度和高硬度：燒結體具有高強度、高硬度、耐磨性及耐腐蝕性，適用于制造各種精密陶瓷部件

  。
• 光學性能：通過HIP（熱等靜壓）燒結后，TM-DA/TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷，用于高壓鈉燈電弧管、激光窗口等光學器件

  。

廣泛的應用領域

• 精密陶瓷：適用于制造切削工具、等

  。
• 電子材料：用于IC基板、傳感器等電子元件

  。
• 光學材料：可用于制造透明陶瓷、紅寶石、YAG激光晶體等。
• 其他材料：還適用于研磨材料、合成尖晶石、催化劑載體等

  。