工業(yè)臭氧發(fā)生器監(jiān)測高濃度臭氧環(huán)境測定裝置

工業(yè)臭氧發(fā)生器監(jiān)測高濃度臭氧環(huán)境測定裝置

1. 檢測原理
   基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度。
2. 技術特性
• 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘。
• 多環(huán)境適配：支持氣態(tài)/液態(tài)臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能。
• 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業(yè)臭氧發(fā)生器出口監(jiān)測。
3. 應用場景
   主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環(huán)境，需搭配動態(tài)校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現(xiàn)閉環(huán)控制。
4. 市場對比
   類似產(chǎn)品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高

1. 檢測原理
   基于臭氧對254nm紫外光的特異性吸收，符合朗伯-比爾定律（I=Io·e????），通過測量光強衰減計算濃度

   。
2. 技術特性
• 高精度：檢測限可達ppb級，誤差≤±4%F.S.，響應時間≤5分鐘

  。
• 多環(huán)境適配：支持氣態(tài)/液態(tài)臭氧檢測，具備溫度壓力補償功能

  。
• 高濃度范圍：部分型號量程擴展至20mg/L（約10,000ppm），適用于工業(yè)臭氧發(fā)生器出口監(jiān)測

  。
3. 應用場景
   主要用于半導體、水處理等高濃度臭氧環(huán)境，需搭配動態(tài)校準儀（稀釋比1:100-1:1000）實現(xiàn)閉環(huán)控制

   。
4. 市場對比
   類似產(chǎn)品如TH-2003H型分析儀量程0-500ppb，而Musashino Kikai側重高