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產(chǎn)品資料
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臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)

產(chǎn)品名稱: 臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
產(chǎn)品型號: EMC-115
產(chǎn)品特點(diǎn): 臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺(tái)式兩用型水分計(jì),主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。

臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì) 的詳細(xì)介紹

臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)

臺(tái)式工業(yè)水相體系快速測量水分管理水分計(jì)

日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺(tái)式兩用型水分計(jì),主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。

日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺(tái)式兩用型水分計(jì),主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。

日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺(tái)式兩用型水分計(jì),主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。綜合最新資料,其關(guān)鍵信息如下:

1. 測量原理

  • 靜電容量+電導(dǎo)率雙模:利用水分子介電常數(shù)遠(yuǎn)高于有機(jī)溶劑的特性,通過高頻電容檢測溶液總體介電常數(shù)變化,再疊加電導(dǎo)率修正,消除含鹽量波動(dòng)造成的誤差;
  • 內(nèi)置 PT100 溫度探頭,實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償,保證 5–60 ℃ 范圍內(nèi)漂移 ≤±0.3 %H?O。

2. 技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
項(xiàng)目規(guī)格
水分量程0–100 wt%(體積可對應(yīng) 0–1000 g·L?1)
分辨率/重復(fù)性0.1 wt% / ±1 wt%(@20 ℃)
溫度量程0–100 ℃
輸出信號4–20 mA + RS-485(Modbus-RTU)
報(bào)警接點(diǎn)上下限獨(dú)立,AC 250 V-2 A
響應(yīng)時(shí)間≈300 s(T90,標(biāo)準(zhǔn)流速)
電源AC 100 V ±10 % 50/60 Hz 30 W
接液材質(zhì)SUS316 + PTFE,常溫耐壓 0.5 MPa
防護(hù)等級IP54(傳感器部分 IP65)

3. 產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 對半水性清洗劑、碳?xì)淙軇?、乙二醇類冷卻液均可直接測量,無需試劑;
  • 傳感器探頭直徑 φ25 mm,長度 150 mm,可法蘭或三通裝入循環(huán)管路;
  • 主機(jī) 96 × 96 mm 盤面,面板厚度僅 80 mm,適合電控箱內(nèi)嵌安裝;
  • 內(nèi)置自診斷:電極結(jié)垢、超溫、斷線自動(dòng)報(bào)警,維護(hù)周期 3–6 個(gè)月擦拭一次即可。

4. 典型應(yīng)用

  1. 金屬加工中心清洗液水分管理(目標(biāo) 3–8 %H?O);
  2. 光學(xué)、電子零部件漂洗槽水分監(jiān)控;
  3. 碳?xì)湔婵涨逑礄C(jī)在線脫水控制;
  4. 化工反應(yīng)釜水相滴加終點(diǎn)判斷。

5. 選型與配套

  • EMC-115-S:分體式,傳感器與主機(jī)最遠(yuǎn)距離 50 m;
  • EMC-115-P:一體插入式,帶 1 m 護(hù)套管,適合旁路杯或小型儲(chǔ)罐;
  • 可選自動(dòng)珠刷清洗環(huán),用于含油、易結(jié)垢液體,延長免維護(hù)時(shí)間至 12 個(gè)月。
日本 YEI-JP EMC-115 是一款采用“靜電容量法"測量水分和溫度的在線/臺(tái)式兩用型水分計(jì),主要面向清洗液、切削液、化工溶液等工業(yè)水相體系的快速水分管理。綜合最新資料,其關(guān)鍵信息如下:

1. 測量原理

  • 靜電容量+電導(dǎo)率雙模:利用水分子介電常數(shù)遠(yuǎn)高于有機(jī)溶劑的特性,通過高頻電容檢測溶液總體介電常數(shù)變化,再疊加電導(dǎo)率修正,消除含鹽量波動(dòng)造成的誤差;
  • 內(nèi)置 PT100 溫度探頭,實(shí)時(shí)溫度補(bǔ)償,保證 5–60 ℃ 范圍內(nèi)漂移 ≤±0.3 %H?O
    。

2. 技術(shù)參數(shù)

表格
復(fù)制
項(xiàng)目規(guī)格
水分量程0–100 wt%(體積可對應(yīng) 0–1000 g·L?1)
分辨率/重復(fù)性0.1 wt% / ±1 wt%(@20 ℃)
溫度量程0–100 ℃
輸出信號4–20 mA + RS-485(Modbus-RTU)
報(bào)警接點(diǎn)上下限獨(dú)立,AC 250 V-2 A
響應(yīng)時(shí)間≈300 s(T90,標(biāo)準(zhǔn)流速)
電源AC 100 V ±10 % 50/60 Hz 30 W
接液材質(zhì)SUS316 + PTFE,常溫耐壓 0.5 MPa
防護(hù)等級IP54(傳感器部分 IP65)

3. 產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 對半水性清洗劑、碳?xì)淙軇?、乙二醇類冷卻液均可直接測量,無需試劑;
  • 傳感器探頭直徑 φ25 mm,長度 150 mm,可法蘭或三通裝入循環(huán)管路;
  • 主機(jī) 96 × 96 mm 盤面,面板厚度僅 80 mm,適合電控箱內(nèi)嵌安裝;
  • 內(nèi)置自診斷:電極結(jié)垢、超溫、斷線自動(dòng)報(bào)警,維護(hù)周期 3–6 個(gè)月擦拭一次即可
    。

4. 典型應(yīng)用

  1. 金屬加工中心清洗液水分管理(目標(biāo) 3–8 %H?O);
  2. 光學(xué)、電子零部件漂洗槽水分監(jiān)控;
  3. 碳?xì)湔婵涨逑礄C(jī)在線脫水控制;
  4. 化工反應(yīng)釜水相滴加終點(diǎn)判斷。

5. 選型與配套

  • EMC-115-S:分體式,傳感器與主機(jī)最遠(yuǎn)距離 50 m;
  • EMC-115-P:一體插入式,帶 1 m 護(hù)套管,適合旁路杯或小型儲(chǔ)罐;
  • 可選自動(dòng)珠刷清洗環(huán),用于含油、易結(jié)垢液體,延長免維護(hù)時(shí)間至 12 個(gè)月。



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